良質な真空実験環境を実現する為には、真空容器(チャンバー)の内壁面、及び素材内部から放出されるガス(ガス分子)が大きな障害となります。
このような悪影響を及ぼす放出ガスについては、真空容器本体やそれに使用される部品等を製造工程の段階において、あらかじめ真空中での高温によるベーキング処理を施すことによって解決することが出来ます。
真空槽寸法 | 1000×1000×1000(mm) |
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ワーキング寸法 | 700×700×700(mm) |
到達圧力 | ≦1×10-5Pa |
最高温度 | 〜450℃(MAX) |
冷却方式 | 自然冷却 or N2ガス加圧(導入)冷却 |
排気系 | ターボ分子ポンプ (TMP:500L/S) |