Peak Mass (質量数) (amu) |
イオン | 残留ガス分子 | ガスが残留する主な原因 | ||||||||||
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1 | H+ | H2、H2O、炭化水素 | |||||||||||
2 | H2+ | H2、H2O、炭化水素 |
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12 | C+ | CO、CO2、炭化水素 | |||||||||||
14 | N22+、CO22+、CH2+ | N2、CO、炭化水素 | |||||||||||
15 | CH3+ | メチル基をもつ炭化水素 | |||||||||||
16 | O22+、 O+ |
O2、酸素化合物 | |||||||||||
16 | CH4+ | CH4 |
【クラッキングパターン】
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17 | OH+ | H2O | |||||||||||
18 | H2O+ | H2O |
【クラッキングパターン】
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20 | Ar2+ | Ar | Arのクラッキングパターン | ||||||||||
22 | CO22+ | CO2 | CO2のクラッキングパターン | ||||||||||
27 | C2H3+ | 炭化水素 | |||||||||||
28 | CO+、N2+、C2H4+ | CO、N2、炭化水素 | 炭化水素(28)は炭化水素(27)の5〜10倍 CO2(44)が多い時、CO(28)も多い。 | ||||||||||
29 | C2H3+、N2、CO+ | 炭化水素、N2、CO | N2が多い時、大気からリークの可能性。 | ||||||||||
30 | NO+ | 汚れた真空系の排気直後に出る。 | |||||||||||
32 | O2+ | O2 | 28:32=4:1の時、リーク発生の可能性。 | ||||||||||
35 | Cl+ | ハロゲン系洗剤 | |||||||||||
37 | Cl2 isotope | ハロゲン系洗剤 | |||||||||||
39 | C3H3+ | 炭化水素 | |||||||||||
40 | Ar+、C3H4+ | 炭化水素、大気 |
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41 | C3H5+ | 炭化水素 | C3系の炭化水素は36〜44に出るが、39、41、43が特に大きい。 | ||||||||||
42 | C3H6+ | ||||||||||||
43 | C3H7+ | 炭化水素 | |||||||||||
44 | CO2+ | ベーキングをしていない真空容器の内面からの脱離により発生。 | |||||||||||
50 | C4H2+ | 炭化水素、特に芳香族 | |||||||||||
51 | C4H3+ | ||||||||||||
55 | C4H7+ | 炭化水素 | C4系炭化水素は55、57が特に大きい。 | ||||||||||
56 | C4H8+ | ||||||||||||
57 | C4H9+ |