スパッタリング装置Sputtering System
固体表面にイオン化して加速した原子あるいは分子を衝突させることにより、固体表面から固体材料が飛び出してくる現象（スッパッタリング）を利用した成膜装置です。高融点金属や合金材料、誘電体、絶縁材料にも適用できる為に、工業的利用価値が高い。(7.1.3)
東京大学、東京工業大学、（独）物質・材料研究機構、（独）産業技術総合研究所、（独）理化学研究所
…他
※御客様の仕様に合わせた設計製作を承っておりますので、弊社までお問い合わせください。
マグネトロン・スパッタリング蒸着装置 Magnetron Sputtering Deposition System
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4“マグネトロン・スパッタ源
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本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング超高真空薄膜作製装置です。
均一な成膜が可能なサンプルホルダー 回転機構を有し、試料冷却が同時に行えるシステムにより試料のダメージがありません。最大3元のターゲットが装着可能で多層成膜に優れております。またサンプル及びティップ搬送の操作性や、安全にご使用頂く為のインターロック機能など人間工学に基づいたデザインです。
| 到達真空度 |
≦1.0E-7 Pa |
| 基盤加熱温度 |
基盤表面温度 Max500℃ |
| 試料搬送機構 |
トランスファーロッド方式 |
| 蒸着源制御 |
エミッション及びスイープ制御 |
- スパッタ成膜室
- 蒸着ステージ駆動機構
- 試料冷却ステージ駆動機構
- 試料基盤シャッター機構
- ロードロック室
- 試料搬送機構
- 蒸着源用コントローラー
本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング装置です。弊社独自のロードロック室を設けた、超高真空対応型です。成膜時に均一に成膜が可能な試料回転式になっております。
また、試料のダメージを無くす試料冷却が回転しながら可能です。最大４元までターゲットが装着可能な構造になっており、多層成膜が可能です。将来性を考えたマルチチャンバー対応型となっておりますので、今御使用中の装置などにも簡単に接続が可能です。
- 真空計を除く全ての真空構成部品は200℃以上での繰り返しベーキングが可能です。
- 超高真空対応チャンバーとし、Heリークディテクターによるリーク量が1.33×10-11Pa・m3/sec以下です。
- 2インチの基板に対応する基板ホルダー（Mo製）を使用することができます。
- 基板ホルダーはオプションである弊社製トランスファーロッドにより試料ステージ上のホルダー固定機構まで手動で安全に搬送することができます。
- 架台はキャスター及びレベル調整機能付きです。
- マグネトロンスパッタ源に合わせて設計致します。
- 超高真空チャンバー
| 形状 |
ICF-356-N特殊/203/152/114/70 |
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| ポート |
ICF-203、ICF-152、ICF-114、ICF-70 |
| 材質 |
SUS316L |
| 表面処理 |
複合電解研磨鏡面仕上げ |
| 高温処理 |
真空ベーキング 450℃×48時間以上 |
| リーク量 |
5×10-11Pa・m3/sec |
| 到達真空度 |
1×10-11Torr以下
（液体窒素シュラウド冷却かつ300l/s以上のターボ分子ポンプまたは、300l/s以上のイオンポンプ使用時） |
- 3軸マニピュレーター
| Z方向 |
100mm（上下機構 KUD-114/100Z）
モーター駆動 |
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| R方向 |
360°(∞)（回転プラットホーム KMRP-114）
モーター駆動 |
| チルト方向 |
90°（上下機構 KUD-114/70SP）
モーター駆動 |
- モーターコントローラー
ステッピングモーター用コントローラー
専用ボックス付き
- サンプル加熱ヒーター
| 方式 |
爪押さえ型 |
| 到達温度 |
基盤表面温度 Max1200℃ |
| ヒーター材 |
Ta（ヒーター部） モリブデン（本体）
電極には、ロータリージョイントを採用 |
- 下部フランジ
| 形状 |
ICF-356/152×4/70×1 |
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| ポート |
ICF-203、ICF-152、ICF-114、ICF-70 |
| 材質 |
SUS316L |
| 表面処理 |
複合電解研磨鏡面仕上げ |
| 高温処理 |
真空ベーキング 450℃×48時間以上 |
| リーク量 |
5×10-11Pa・m3/sec |
- 液体窒素シュラウド
| 材質 |
ステンレス316L |
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| 方式 |
液体窒素溜め込み式（8/3″パイプ使用） |
| 処理 |
バフ研磨鏡面仕上げ、ヒートサイクル処理（10回） |
| リーク量 |
5×10-8Pa・m3/sec |
- メインシャッター機構
| 方式 |
トランスファーロッド方式（オプション/モーター駆動） |
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- 膜厚センサー移動機構
| センサー |
水晶振動子（オプション） |
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| 取付フランジ |
ICF-70 |
| 移動距離 |
100mm（精度0.1mm） |
- 架台
| 材質 |
SS材／焼付塗装処理(黒色) |
| 寸法形状 |
600×1200×1500
キャスター・アジャスター付き |
- ユーティリティー
| AC100V |
単相 30A |
| AC200V |
三相 20A |
| 圧縮空気 |
5kg／cm2 |
| 冷却水 |
循環水使用（1次側工事は含まれておりません） |
※御客様の仕様に合わせた設計製作を承っておりますので、弊社までお問い合わせください。
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