太陽電池作製装置
本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試料搬送用ロボットチャンバー、試料ストックチャンバーの合計5室で構成しております。
東京工業大学 ( http://tkhshi.pe.titech.ac.jp/index.html )
※御客様の仕様に合わせた設計製作を承っておりますので、弊社までお問い合わせください。
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