電子ビーム蒸着装置
本装置は電子ビーム(EB)を用いた高融点金属蒸着装置です。
本装置には高い材料使用効率と高い膜特性を実現するために自転・公転型プラネタリーを使用しています。また大容量のハース(るつぼ)と最大出力30kWの電子銃を搭載することで数百μと厚い膜厚も高速に成膜していくことが可能です。さらに、膜厚制御は高レート/高膜厚に適応した弊社独自の技術により水晶振動子による高精度測定を実現しています。
到達真空度 |
≦1.0E-5Pa |
電子銃 |
最大出力30kW(15kW2A) |
基板加熱温度 |
Max450℃ |
プラネタリー |
蒸着時に同一軌道上を周回し、かつ自転することによって均一性の高い成膜作業が可能になります。
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装置制御 |
PLC(プログラマブルロジックコントローラー)での自動排気・自動立上げにより24時間全自動運転可能
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- φ800高真空チャンバー
- 蒸着用電子銃
- DP&RP排気ユニット
- クライオ冷却装置
- 冷却水循環装置
- 装置制御盤
高音域スピーカー振動板製作
※御客様の仕様に合わせた設計製作を承っておりますので、弊社までお問い合わせください。
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