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北野精機株式会社
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薄膜作製装置

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スピンスプレー薄膜作製装置

Spin Supply Thin Films Courting System

外観図 Dimensions
特徴

フェライトめっきとは、室温〜90℃の水溶液中で、直接強磁性フェライト膜を作製できる革新的技術です。・1983年に東京工業大学 阿部正紀研究室で発明されて以来工夫を重ね、各種の薄膜磁性デバイス、バイオ・メディカルデバイスへの応用開発がなされ、一部は実用化されました。Fe2+イオンとNi2+などのイオンを原料として、Fe2+→Feの酸化反応を利用し各種のフェライトの薄膜作を可能にしたのが、フェライトめっき法の独創的なポイントです。最大ポイントは基板表面のOH基と金属イオンが共有結合性の化学結合を行う(単なる物理吸着ではない)ために強固な付着力が得られます。

納入実績

東京工業大学 ( http://www.pe.titech.ac.jp/AbeLab/index-j.html ) …他

見積もり
スピンスプレー薄膜作製装置
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