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本装置はPVD手法からなるマグネトロンスパッタ源4個とEB蒸着源2個とMBE用K-CELL装備したハイブリッド型蒸着装置です。高融点材料や酸化物など多種多様な材料と一般的併用が難しいとされる強磁性体材料も対向型のマグネトロンスパッタへの構成追加により可能にします。下部フランジのマルチポートにはMBE蒸着セルも装備できるなど汎用性高いマルチチャンバーによりRHEEDやレーザー導入も含めたあらゆるPVD手法を組み合わせて装置構成する事で研究テーマに依存しない装置として長く使用する事が出来ます。
| 到達真空度 | ≦1.0E-7Pa |
|---|---|
| 基板サイズ | 2インチ |
| 基板加熱温度 | Max1000℃ |
| 試料搬送 | トランスファーロッド |
- φ300超高真空マルチチャンバー（LN2シュラウド付き）
- 搬送室チャンバー
- 蒸着用電子銃×2基
- 2インチスパッタソース×2基
- K-CELL×2基
- 4軸加熱機構付きマニピュレーター
- TMP＆SP排気ユニット
- RHEED+3インチスクリーン
| 見積もり | |
|---|---|
| ハイブリッド蒸着装置 | |
※御客様の仕様に合わせた設計製作を承っておりますので、弊社までお問い合わせください。
