 HOME ＞ 製品案内｜薄膜作製装置 ＞ MBE装置 |
 |
|
|
||||||
 |
本装置は10-8Pa以下の極高真空中に置いた基板を加熱し、基板上に堆積させたい原料を独立に供給して基板上に結晶を成長させる真空蒸着法で、蒸発原料に固体を使用して分子線蒸着源（effusion cell）により原料の蒸発を行う固体ソースMBE装置と、原料に気体や有機金属を使用するガスソースMBE装置などがございます。（7.1.8）
EPI社製、エイコーエンジニアリング社製
…他
東京大学 、東京工業大学、（独）物質・材料研究機構、（独）産業技術総合研究所 殿
…他
| 見積もり | |
|---|---|
| MBE装置 | |
※御客様の仕様に合わせた設計製作を承っておりますので、弊社までお問い合わせください。
