CVD装置

CVD：Chemical Vapor Deposition System

本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質（気体、液体、固体）としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を利用した薄膜作製装置です。原料ガス状物質を化学的に活性させる（励起状態にする）手法として、熱、プラズマ、光（レーザー、紫外線など）があり、各々熱CVD、プラズマCVD、光CVD装置などがございます。 （7.1.4）

東京大学 、東京工業大学、（独）物質・材料研究機構
（独）産業技術総合研究所 （ http://unit.aist.go.jp/nano-ele/emerg-mat/ ）
…他

ホットワイヤー方式ダイヤモンド合成装置

本装置は、タングステンフィラメントを使用したホットワイヤー型CVD装置で、プラズマ損傷の無い大面積と高純度薄膜成形の特徴を持っており、P・N型半導体ダイヤモンド合成や結晶シリコン太陽電池など電子デバイスの分野で多く使用されています。本装置は分割式のチャンバー構造により、容易にメンテナンスやハード条件だしの変更が可能で、ライン構成の操作盤によりガスラインを含め操作部が前面に集約されている事で操作性良く出来ています。