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北野精機株式会社
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ソース

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PreVac社製品

(簡易型)イオン銃 IS 40C1 Ion Source IS 40C1

外観図 Dimensions
(簡易型)イオン銃 IS 40C1
(簡易型)イオン銃 IS 40C1
装置全体図
CADデータ(準備中)
概要

40C1イオン銃は試料表面をクリーニングするためのコンパクトで簡便なイオン銃です。
取付フランジは、DN40CF(外径70mm)で容易に装着が可能です。
イオン電流の電流密度は15〜25A/cm2(アルゴン)でガウシアンの形状をしています。
真空下のソース長は標準では63mmですが、お客様のご要望に応じて製作できます。
イットリウムがコーティングされたイリジュウムフィラメントは他のカソードより低い温度で動作し、不活性ガスの対応だけでなく酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスの導入も可能となります。

特徴
  • お客様のご要望に応じた真空内ソース長の製作可能
  • 酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスに対しても使用可能
仕様 Specification
電流密度 15〜25μA/cm2
加速電圧 0.12〜5keV
真空度(動作時) 10-5〜10-6
取付フランジ DN40CF(回転)
真空内ソース長 63mm(標準)
ベイク温度 250℃以下
型式 IS 40C1
見積もり
※御客様の仕様に合わせた設計製作を承っておりますので、弊社までお問い合わせください。
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走査型イオン銃 IS 40E1 Ion Source IS 40E1

外観図 Dimensions
走査型イオン銃 IS 40E1
走査型イオン銃 IS 40E1
装置全体図
CADデータ(準備中)
概要

40E1イオン銃は、2段の出射レンズを採用した収束型イオン銃です。
2段の出射レンズによって、スポットサイズと加速電圧(0.15eV〜5keV)が簡単に可変出来ます。この場合ビーム電流値は250μA/cm2となります。他の製品との干渉を避けるためイオン銃先端が50ºのテーパー状に絞られています。このイオン銃のフィラメントの取付位置は銃内部の汚染を避けるため、試料表面への入射イオンビームのラインに対してオフ アクシスに設計されています。
これにより長寿命で調整のいらないイオン銃が実現いたしました。
イットリウムがコーティングされたイリジュウム フィラメントは他のカソードより低い温度で動作します。また酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスの導入が可能となります。走査範囲はワーキング距離が23mmの位置で、10 x10 mmとなり均一なスパッターが出来ます。これによって、深さ方向の分析が正確に出来ます。

特徴
  • フルソフトウエア操作
  • 2段の差動排気
  • 酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスに対しても使用可能
  • 超高真空下でイオン銃の操作が可能
  • ウインマスフィルターの装着が可能
  • 2段出射レンズによりイオンビームのスポット径が容易に調整可能
仕様 Specification
電流密度 250μA/cm2
加速電圧 0.15〜5keV
ワーキング距離 23〜100mm
最小スポットサイズ 0.6mm
取付フランジ DN40CF(回転)
真空内ソース長 163mm(標準)
走査範囲 試料上で10 x 10mm
ベイク温度 250℃以下
型式 IS 40E1
見積もり
※御客様の仕様に合わせた設計製作を承っておりますので、弊社までお問い合わせください。
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ミニ電子ビーム蒸着装置 EBV 40A1 Electron Beam Evaporator EBV 40A1

外観図 Dimensions
ミニ電子ビーム蒸着装置 EBV 40A1
ミニ電子ビーム蒸着装置 EBV 40A1
装置全体図
CADデータ(準備中)
概要

EBV 40A1は数原子層の膜を作製するためやMBE装置で作製した多層膜のドーパント用として開発された装置です。フラックスを監視しながら蒸発量を正確にコントロールすることによって1分間に1/10層の膜を作製することが出来ます。
また超高真空下で蒸発させることにより非常に純度の高い膜成長が可能となります。蒸発量のコントロールは作製する膜の均一性にも有効に作用します。基板上の成膜の範囲はソース先端と基板との距離及びノズルの出射アパチャーのサイズにより決められます。尚、手動シャッターが標準装備されていますが、モータ駆動による自動シャッターのご要望にも対応しています。

特徴
  • 取付フランジがICF70(外径70mm)と簡便な設計
  • 蒸着材料のフラックスをモニタリングする事により材料の蒸発量をコントロール(標準装備)
  • 電子ビーム蒸着装置のソースを取り外すことなく、蒸着材料の交換が可能
  • 蒸着材料は送出し機構に装填され、材料の大部分が消費(標準装備)
  • 手動式シャッターを標準装備し、蒸着を即座に停止
  • ソース先端に装着するノズルにより基板へ均一な蒸着が可能
  • 蒸着材料に合わせた各種クルーシブル
仕様 Specification
成膜サイズ 直径5〜20mm
蒸着材料加熱温度 160〜2300℃(モリブデンコネクター使用時:3300℃)
加速電圧 0〜1500eV (通常使用電圧:600〜800eV)
最大エミッション電流:200mA
最大電力:300W
蒸着材料(ロッド)サイズ 0.5〜2.3 mm
冷却水の温度 0〜100℃
真空内ソース長 長さ212mm、口径34,8mm
取付フランジ DN40CF (外径70mm)
ベイク温度 〜250℃
ワーキング距離 25〜75m(推称ワーキング距離70〜75mm)
先端取付ノズル ID4(内径4mm)〜 ID19(内径19mm)
型式 EBV 40A1
見積もり
※御客様の仕様に合わせた設計製作を承っておりますので、弊社までお問い合わせください。
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蒸発セル EF 40C1 Effusion Cell EF 40C1

外観図 Dimensions
蒸発セル EF 40C1
蒸発セル EF 40C1
装置全体図
CADデータ(準備中)
概要

EF 40C1 蒸発セルはMBE装置に適応したセルとして開発されました。
モリブデンフリーの材質によって製作されているため250〜1500℃の範囲で蒸発する低融点及び中融点材料に対して使用出来ます。

特徴
  • クルーシブル − 容量が5ccの中間温度用セルとして広く使用されています。クルーシブルの材料は主にPBN、Al2O3ですが、他の材料のご要望にも対応可能
  • 手動及び自動シャッターは純度の高いタンタルで製作
仕様 Specification
ヒーター材料 タングステン ワイヤー
熱電対 タイプC(W/Re 5/26%)
通常仕様温度 1500℃
ベイク温度 1600℃
500℃以下(冷却水を使用しない場合のベイク温度)
温度安定度 ±1℃
取付フランジ DN40CF(外径70mm)
取付フランジ内径 35mm
真空内ソース長 別途ご相談
消費電力 〜300W
推称ワーキング距離 100〜150mm
型式 EF 40C1
見積もり
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走査型電子銃 ES 40C1 Electron Source ES 40C1

外観図 Dimensions
走査型電子銃 ES 40C1
走査型電子銃 ES 40C1
装置全体図
CADデータ(準備中)
概要

ES 40C1電子銃はオジェー電子分光用に開発された走査型の電子銃です。アインツェルレンズを採用することによって高い電子ビームエネルギーから低い電子ビームエネルギーまで広範囲の電子ビームエネルギーに渡って大きなビーム電流が得られます。

特徴
  • 高信頼性、安定性、簡易性を基本に設計
  • 取付フランジがICF70(外径70mm)と簡便な設計
  • ご要望に応じた真空内ソース長の製作
  • 完全プログラム制御
仕様 Specification
エネルギー範囲 0〜5keV
電流値(試料上) 〜100μA
走査範囲(試料上) 10 x 10mm
真空内ソース長 外径:34.5mm、長さ:155mm(最短)
取付フランジ DN40CF
ワーキング距離 32mm
ベイク温度 250℃
型式 ES 40C1
見積もり
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帯電防止用電子銃 FS 40A1 Flood Source FS 40A1

外観図 Dimensions
帯電防止用電子銃 FS 40A1
帯電防止用電子銃 FS 40A1
装置全体図
CADデータ(準備中)
概要

FS 40A1はXPS、UPS、SIMSに用いる帯電防止用電子銃として開発されました。
簡便性、容易性、信頼性をコンセプトに設計されています。アプリケーションに合わせて電子ビームエネルギーが選択できます。またお客さまのご要望に応じて、磁場遮蔽用シールド材、真空内ソース長の変更ができます。

特徴
  • 簡便性、容易性、信頼性を基本に設計
  • 電子ビームエネルギーの選択(0〜10、10〜500eV)が可能
  • 真空内ソース長の変更可能
  • 完全プログラム制御
仕様 Specification
エネルギー範囲 0〜10および10〜500keV
電流値(試料上) 0〜100μA
真空内ソース長 145mm
取付フランジ DN40CF
ワーキング距離 41mm
ベイク温度 250℃
型式 FS 40A1
見積もり
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紫外線源 UVS 40A2 UV Source UVS 40A2

外観図 Dimensions
紫外線源 UVS 40A2
紫外線源 UVS 40A2
装置全体図
CADデータ(準備中)
概要

UVS 40A2は各種ガス(ヘリウム、ネオン、クリプトン、アルゴン、水素)に対応した紫外線発生装置です。紫外線源の放電は冷陰極力ソードキャピラリー領域で行われます。
紫外線の出力低下を避けるため、放電領域とターゲットの間はウインドウレス(直線のパイプ形状)になっており、紫外線出力は電気的に安定化されています。また、高出力を得るため紫外線ランプは水冷式を採用しています。
紫外線源に装着されているポートアライナーによって、紫外線出射角度を±4ºで調整ができます。緊急時には事故を回避するためのインターロックが装備されています。

特徴
  • ライトキャピラリーは、実験に応じて内径、長さの選択が可能
  • ライトキャピラリーは、ステンレスパイプに挿入され安全に保護
  • 2段差動排気方式により、真空測定室をクリーンで高い真空度に保持
仕様 Specification
ワーキング距離 27〜50mm
紫外線の拡がり <1°
取付フランジ DN40CF
真空内ソース長 220mm(標準)
He I/He II強度比 1:2
ベイク温度 150℃以下
型式 UVS 40A2
見積もり
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X線源 RS 40B1 X-Ray Source RS 40B1

外観図 Dimensions
X線源 RS 40B1
X線源 RS 40B1
装置全体図
CADデータ(準備中)
概要

RS 40B1は光電子分光用に開発された新型、高出力のツインアノード(Al/Mg)X線源です。ツインアノードを前後に可動させるためのZシフトもオプションで準備されています。
他社製品の取替え用X線源としても広く採用されています。

特徴
  • 自社設計の冷却機構によりアノードを効率よく冷却
  • クロストークによる汚染を抑えるための設計
  • 他社製品代替品としての汎用性
仕様 Specification
標準アノード Al/Mg蒸着膜(他のアノードも製作可能)
消費電力 Mg/Al 400W/600W
クロストーク <0.35%
Z方向移動、ティルト(オプション) 50、75、100mm
ベイク温度 250℃以下
必要水冷値 水圧:4.5〜5bar、流量:≥2.5L/分
型式 RS 40B1
見積もり
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チャンバー照射用LEDライトシステム VCH-02 Vacuum Chamber Highlight System VCH-02

外観図 Dimensions
チャンバー照射用LEDライトシステム VCH-02
チャンバー照射用LEDライトシステム VCH-02
チャンバー照射用LEDライトシステム VCH-02
概要

このVCH-02は、真空装置内のサンプル周りや受け渡し、各分析機器、蒸着源の周りを照らすのに最も適したLEDライトシステムです。
低消費電力でありながら高感度、高輝度、高寿命と省エネ時代に求められた製品です。小型の電源BOXと手元で照度を変えることのできるリモートコントローラーが特徴でお客様のPCでも制御が可能です。
小型電源、リモートコントローラーで1度に10個のLEDライトが制御できます。ICF70用はシングルライト、ICF114用以上はダブルライトになっており、1個のライトに5mのケーブルが付いているので大型の装置にも装着が可能です。ライトは単品で販売しておりますので、拡張性がございます。

特徴
  • 低消費電力:10個のライトをすべて使用してもたったの50W
  • 高感度:2種類の波長の違うLEDを使用
  • 高輝度:105ルーメン/LED
  • 高寿命:100,000時間/LED
  • パルス電源を使用することにより、高寿命でありながら同じ明るさを保つことが可能
型式 VCH-02
見積もり
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蒸着用成膜コントローラー TMC-13 Thickness Monitor Controller TMC-13

外観図 Dimensions
蒸着用成膜コントローラー TMC-13
概要

TMC-13は、標準6MHz水晶振動子に対応した膜厚モニターとなります。
操作は、液晶タッチパネルから可能であり、シンプルでコンパクトなデザインです。
研究開発用の簡易金属蒸着には適している製品です。
インターフェイスも4種類から選択可能であり、シャッター制御も可能な製品です。

特徴
  • 6個の水晶振動子のモニター及び制御が可能
  • 6.5インチ液晶タッチパネルで操作が簡単
  • シンプルでコンパクトなデザイン
  • 2台分の真空計の入力が可能
  • インターフェイスは、USB、RS232/485、Ethernet、Bluetoothから選択が可能
  • シャッターは、手動、時間、膜厚で制御が可能
  • 成膜レート及び膜厚用の2系統 1.6bitアナログ出力が標準装備
  • 標準6MHzの水晶振動子に対応
  • Webで使用可能なユニット
  • 周波数のレンジは2〜6MHzで周波数の精度は0.1Hz
  • Rapid SE softwareとLabView librariesに対応
  • 膜厚は0〜9999000Åまで設定が可能で分解能は0.1Å
  • 成膜時間は0〜9999Å/sまで設定が可能で分解能は0.1Å/s
型式 TMC-13
見積もり
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ヒーター用電源コントローラー HEAT3-PS Heating Power Supply HEAT3-PS

外観図 Dimensions
ヒーター用電源コントローラー HEAT3-PS
概要

HEAT3-PSは、抵抗加熱式と電子ビーム加熱式の2種類の制御が選択可能です。
また、熱電対接続端子も付いており、温度制御も可能な高性能電源です。
操作は、液晶タッチパネルから可能であり、抵抗加熱式であれば、40V-10A(MAX)仕様であり、電子ビーム加熱式ですと1kV(DC)-300mA仕様となります。

特徴
  • 2種類の加熱方式(抵抗加熱、電子ビーム)の制御が可能
  • 1.4〜2470Kと広範囲な測定が可能
  • 1000Wで3U packageで高効率化を実現
  • 電流・電圧のセットポイントで出力保護が可能
  • 手動制御及びPID温度制御が可能
  • PFC回路を持ち120〜230Vまで使用可能な高性能電源
  • インターフェイスは、RS232/485、Ethernet、Bluetoothから選択が可能
  • 多様なI/O(10デジタル/4アナログ)
  • 高精度なリモートセンシング(16bitアナログ I/O 0.1k[温度])
  • 1チャンネルの真空計入力が可能
  • 多様な温度センサーに対応可能(熱電対、白金線、ダイオード他)
  • 6.5インチ液晶タッチパネルで操作が簡単
  • PCでの操作も可能
  • Webで使用可能なユニット
  • メニューの追加も可能
  • サポートも充実(アップデイトはUSB、RJ45で簡単)
型式 HEAT3-PS
見積もり
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