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分析装置・機器

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分析・観察・評価装置

UHV対応レーザー顕微鏡装置

外観図 Dimensions
UHV対応レーザー顕微鏡装置
図面:UHV対応レーザー顕微鏡装置
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特徴

本装置は、走査型レーザー顕微鏡を使用し、試料を真空中や高温・ガス雰囲気など様々な環境において挙動変化を観る観察・検査装置です。トランスファーポートを設けてありますので成膜装置との連結により試料を成膜後暴露することなく観察が可能になります。顕微鏡の解像度は0.3μmに達し焦点深度も深く三次元形状測定も可能です。

※本製品は東京工業大学 松本祐司准教授の技術指導により製品化されました。

東京工業大学大学院 応用セラミックス研究所 セラミックス機能部門
総合理工学研究科 物質化学創造専攻 超機能物質講座 松本研究室
URL: http://www.msl.titech.ac.jp/~matsumoto/index.html

仕様
到達真空度 ≦1.0E-6Pa
試料サイズ 10mm
倍率 250〜1250×
視野 1150〜230μm
基板加熱温度 Max500℃
ガスライン 混合1系統
構成
  • 走査型レーザー顕微鏡
  • 水冷付きUHVチャンバー
  • TMP&RP排気ユニット
  • 加熱機構付きマニピュレーター
  • ガス混合パネル(IN2系OUT1系)
見積もり
UHV対応レーザー顕微鏡装置
※御客様の仕様に合わせた設計製作を承っておりますので、弊社までお問い合わせください。
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