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本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試料搬送用ロボットチャンバー、試料ストックチャンバーの合計5室で構成しております。
東京工業大学 （ http://tkhshi.pe.titech.ac.jp/index.html ）
| 見積もり | |
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| 太陽電池作製装置 | |
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