超高真空対応マグネトロンDCスパッタソースUHV Magnetron DC Sputter Source
取付フランジ側
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Tiターゲット設置時の放電の様子
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見積もり |
超高真空対応マグネトロンDCスパッタソース |
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本スパッタソースは超高真空対応の汎用型小型マグネトロンスパッタソースです。本体がすべてベーカブルであるため、反応性の高いターゲットでも、不純物の少ない成膜が可能です。
- Oリングを使用しない超高真空タイプ
- スパッタソースを超高真空に保持したまま、マグネットの取り外しが可能
- マグネットを取り外すことにより、300℃までのベーキングが可能
- ターゲットの固定はリテイナーで行われ、ターゲットを短時間で交換可能
- ガス導入口が取付フランジと一体となっているので、ガス導入用のフランジは不要
取付フランジ |
ICF-152 |
ターゲットサイズ |
1.5inch(円形) |
ターゲット固定 |
リテイナー式 |
マグネット材質 |
SmCo |
ベーキング温度 |
300℃ |
DC電源(オプション) |
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